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    氣相沉積爐的特征

    時間:2022-3-10 15:39:00 來源:http://www.zaalouk.com/news776652.html


    氣相沉積爐的特征


    氣相沉積爐是利用中頻感應加熱的高溫燒結設備,氣相沉積爐CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術較初是作為涂層的手段而開發的,但目前,不只應用于耐熱物質的涂層,而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等,是一個頗具特征的技術領域。氣相沉積爐技術特征在于:(1)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(2)高熔點物質能夠在低溫下合成;(3)不僅可以在基片上進行涂層,而且可以在粉體表面涂層,等。特別是在低溫下可以合成高熔點物質,在節能方面做出了貢獻,作為一種新技術是大有前途的。


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